טכנולוגיית חיטוי אויר ופני שטח לציוד ולמוצר (לחץ למצגת)
עקרונות המערכת:
-
חימצון פני שטח, לשם קטילת:
בקטריות,
עובשים,
ווירוסים.
-
חימצון לשם פירוק ריחות גזים נדיפים VOC וכימיקלים אורגנים ואנאורגנים.
-
חימצון באמצעות:
רדיקלים הידרוקסילים – OH⁻) Hydroxyl Radical)
אוזון
מימן פראוקסיד – Hydrogen Peroxide
הגדרות:
-
( -Hydroxyl Radical (OH– מחמצן בלתי יציב, אגרסיבי ורדיקל חופשי.
-
מופק במערכת כאשר אוזון ומים (לחות) מגיבים באמצעות אנרגית UV.
-
בעל פוטנציאל חימצון גבוהה משל אוזון, כלור או מימן פראוקסיד בשל אופיו הבלתי יציב דבר המגביר את קצב הריאקציה.
-
תוצרי חימצון סופיים: CO2, H2O, כאשר בדרך מופקים גם יוני:
הידרופראוקסיד –
ויוני סופר אוקסיד (O2⁻)- בעלי נטייה חזקה להגיב.
טכנולוגיה -1-PhotoHydroIinization (PHI) Technology
-
שימוש ב 2 אורכי גל UV
-
גלים אלו מוקרנים על משטח קטליטי מתכתי
-
הציפוי הקטליטי הינו הידרופילי ומורכב מהמתכות: TiO2, Ag, Cu
-
משמעות אורכי הגל השונים:
254 nm – גורם ליצירת רדיקלים חופשיים על פני שטח ה PHI
תגובה: H2O + O2 TiO2+UV → OH ⁻ +H⁺ + O⁻2
185 nm – גורם ליצירת גז האוזון O3
-
מערכת ה PHI לא רק מחטאת את האוויר בקרינת UV אלא מוסיפה למערכת גם אפקט מתמשך הממשיך לחטא את האוויר/מוצר גם אח"כ.
טכנולוגיה -2-(R.E.M.E (Reflective Electro Magnetic Energy
-
תא ה-R.E.M.E , מייצר אנרגיה אלקטרומגנטית, המפיקה פלסמת חימצון מיוני הידרופראוקסיד.
-
הזרקת הפלסמה לחלל האוויר באמצעות אנרגיה חשמלית וללא חלקים נעים.
-
יוני ההידרו-פראוקסיד נוצרים בתנאי לחות וחמצן.
-
מיועד בעיקר לחיטוי וטהור סביבה הנמצאת בסיחרור.
תנאי עבודה אידיאליים להארכת חיי מדף
-
חיטוי סביבת העבודה דרך ארובות המיזוג בריכוז אוזון שאינו מסכן את העובדים (עד 0.04 PPM)
-
חיטוי מי שטיפת חומרי הגלם באוזון, החיטוי מסלק מהמים:
זיהום בקטריאלי.
מונע צורך בהכלרה.
מפרק שאריות חומרי הדברה.
ריכוז עבודה: 0.1% לצריכה שוטפת
5% לטיפול בשפכים
-
חיטוי רציף של הציוד הבא במגע עם המוצר כגון: מסועים, שולחנות וכו'
-
חיטוי פני שטח המוצר הסופי לפני האריזה
זמן מחצית חיים של אוזון
-
לאוזון זמן מחצית חיים של 20-100 דקות במים בטמפ' של כ- 20˚C
-
ממשיך לחטא את המוצר גם לאחר שיצא מתעלת החיטוי.
-
מתפרק גם בתוך האריזה ללא עקבות.
-
לא יוצר טעמי לוואי.