חיסכון באנרגיה ואיכות הסביבה לתעשייה

חדשות image image

  • חברת Janbacher GE אישרה את השמן Sentron CG40

    חברת Janbacher GE אישרה את השמן Sentron CG40

    חברת Janbacher GE אישרה את השמן Sentron CG40 למנועי גז מסוג 2,3 לביוגז בוצה ומטמנות

  • פלוקולנטים ירוקים

    מרקיט החלה בשיווק פלוקולנטים ירוקים ללא אקריל עמיד בנוסף לפלוקולנטים הרגילים

  • חג פורים שמח

    חג פורים שמח

    חברת מרקיט, עובדיה ומנהליה מאחלים לקהל לקוחותינו חג פורים שמח 

  • העמקת פעילות בתחום האוזון

    חברת מרקיט פועלת להעמקת הפעילות בתחום האוזון על ידי ייצור של מתקני חיטוי Hydrozone הבטוחים לשימוש בסביבת בני אדם.

חיטוי אויר ומשטחים

טכנולוגיית חיטוי אויר ופני שטח לציוד ולמוצר (לחץ למצגת)

 

עקרונות המערכת:

  • —חימצון פני שטח, לשם קטילת:
—בקטריות,
—עובשים,
—ווירוסים.
  • —חימצון לשם פירוק ריחות גזים נדיפים VOC וכימיקלים אורגנים ואנאורגנים.
  • —חימצון באמצעות:
—רדיקלים הידרוקסילים – OH⁻) Hydroxyl Radical)
—אוזון
—מימן פראוקסיד – Hydrogen Peroxide
 
הגדרות:
  • ( -Hydroxyl Radical (OH– מחמצן בלתי יציב, אגרסיבי ורדיקל חופשי.
  • מופק במערכת כאשר אוזון ומים (לחות) מגיבים באמצעות אנרגית UV.
  • בעל פוטנציאל חימצון גבוהה משל אוזון, כלור או מימן פראוקסיד בשל אופיו הבלתי יציב דבר המגביר את קצב הריאקציה.
  • תוצרי חימצון סופיים: CO2, H2O, כאשר בדרך מופקים גם יוני:
                                                                         הידרופראוקסיד –
                                                                         ויוני סופר אוקסיד (O2⁻)- בעלי נטייה חזקה להגיב.
 
טכנולוגיה -1- PhotoHydroIinization (PHI) Technology 
                                                                                                                                    
  • שימוש ב 2 אורכי גל UV
  • גלים אלו מוקרנים על משטח קטליטי מתכתי
  • הציפוי הקטליטי הינו הידרופילי ומורכב מהמתכות: TiO2, Ag, Cu
  • משמעות אורכי הגל השונים:
              254 nm – גורם ליצירת רדיקלים חופשיים על פני שטח ה PHI
              תגובה:     H2O + O2   TiO2+UV →   OH+H  + O⁻2                      
             185 nm – גורם ליצירת גז האוזון O3
  • מערכת ה PHI לא רק מחטאת את האוויר בקרינת UV אלא מוסיפה למערכת גם אפקט מתמשך הממשיך לחטא את האוויר/מוצר גם אח"כ.

טכנולוגיה -2- (R.E.M.E (Reflective Electro Magnetic Energy

  • תא ה-R.E.M.E , מייצר אנרגיה אלקטרומגנטית, המפיקה פלסמת חימצון מיוני הידרופראוקסיד.
  • הזרקת הפלסמה לחלל האוויר באמצעות אנרגיה חשמלית וללא חלקים נעים.
  • יוני ההידרו-פראוקסיד נוצרים בתנאי לחות וחמצן.
  • מיועד בעיקר לחיטוי וטהור סביבה הנמצאת בסיחרור.

תנאי עבודה אידיאליים להארכת חיי מדף

  • חיטוי סביבת העבודה דרך ארובות המיזוג בריכוז אוזון שאינו מסכן את העובדים (עד 0.04 PPM)
  • חיטוי מי שטיפת חומרי הגלם באוזון, החיטוי מסלק מהמים:

                                                                               זיהום בקטריאלי.
                                                                               מונע צורך בהכלרה.
                                                                               מפרק שאריות חומרי הדברה.
                                                                               ריכוז עבודה: 0.1% לצריכה שוטפת
                                                                               5%  לטיפול בשפכים

  • חיטוי רציף של הציוד הבא במגע עם המוצר כגון: מסועים, שולחנות וכו'
  • חיטוי פני שטח המוצר הסופי לפני האריזה

זמן מחצית חיים של אוזון

  • לאוזון זמן מחצית חיים של 20-100 דקות במים בטמפ' של כ- 20˚C
  • ממשיך לחטא את המוצר גם לאחר שיצא מתעלת החיטוי.
  • מתפרק גם בתוך האריזה ללא עקבות.
  • לא יוצר טעמי לוואי.